| 設備名稱與型號 | 高能直流磁控濺射鍍膜儀（配旋轉樣平臺和水冷機組） VTC-16-SM |
| 基本參數 | · 電源：AC 220V 50/60Hz · 濺射電流：0-130mA · 功率：≤1KW · 輸出電壓：DC700V |
| 設備結構及特點 | · 可抽真空、通氣氛 · PLC集成的控制系統 · 石英腔室、等離子磁控濺射靶頭，靶材濺射擋板 · 帶靶頭支撐架 · 水冷系統 · 薄膜測厚儀（選配） · 樣品臺加熱（選配） 特點 ·體積小巧，可選擇手套箱專用版本 ·射頻電源版本可選 ·最大可制備4英寸薄膜 |
| 磁控濺射頭 | · 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），另有1英寸靶頭可選； · 采用快速接頭與真空腔體相連接
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| 靶材 | · 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對基片的損傷和基片溫升比較少 · 標配一塊銅靶，φ2″*3mm · 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度 · 靶材和樣品臺之間的距離為60-100mm可調 |
| 濺射腔室 | ·腔室尺寸：外徑166mm×內徑150mm×高290mm，采用高純石英制作； ·密封法蘭: 采用金屬鋁制作，氟膠密封圈密封； · 法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板，用于靶材的預濺射。一個φ6.35的卡套接頭為進氣口，用于連接進氣管。一個手動放氣閥用于往石英腔體內部充入空氣。 ·一個不銹鋼網罩罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體。
·通過調節殼體右側的微量精密調節閥控制進入石英腔體內部工作氣體的流量，從而達到調節腔體內部的真空度 ·通過調節殼體右側的電位器，實現對濺射電流大小的控制。
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| 樣品臺 | · 樣品臺可旋轉（為了制膜更加均勻） · 樣品臺尺寸：直徑φ50mm （最大可放置2英寸的基片） · 旋轉速度：5 r/min · 樣品臺可選配加熱功能，最高加熱溫度可達500℃ 樣品臺可選配制冷功能，最低制冷溫度可達5℃
· 可訂購其他樣式的樣品臺用于鍍膜光纖等線材的圓周表面
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| 控制面板 | · 4″PLC集成觸摸屏控制面板，可顯示真空、電流、樣品濺射時間等，
·數據記錄功能可以記錄每次濺射的真空度、電流和濺射時間等工藝參數，方便客戶進行查詢。 |
| 真空系統（選配） | · 型號：VRD-8 · 抽氣速率：2.2 L/S · 電機功率：370 W · 極限壓強：5×10-1Pa（不帶負載） · 實際壓強：≤5 Pa（冷態下機械泵抽20分鐘） · 如果想要獲得更高的真空度（10-5toor or better）可選購國產或進口高真空機組
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| 水冷設備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高） · 水箱容量：6L · 水流速率：16L/min |
| 薄膜測厚儀（選配） | · 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10? · LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
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| 設備尺寸 | ·560mm（長）*400mm（寬）*780mm（高） |
| 重量 | 約20KG（不含泵、水冷設備） |
| 保質期 | 1年（不包密封圈等損耗件） |
注意事項 | · 腔室內氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向石英管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題，本公司概不負責。 |
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皖公網安備 34012302000974號
