| 設備名稱 | 小型粉末PVD濺射儀(配直流磁控濺射,樣平臺可振動)- VTC-16-PW |
| 主要特點 | ? 可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾，達到粉體表面均勻包覆； ? 設備小巧可在手套箱內使用（需訂貨時說明另配KF40饋通），可處理對氧敏感性材料 ? 可抽真空、通氣氛 ? PLC集成的控制系統 ? 標配石英腔室、等離子磁控濺射靶頭，靶材濺射擋板 ? 具有水冷系統，用于冷卻濺射頭 ? 可搭配薄膜測厚儀一起使用（選配） |
| 相關視頻 |
操作視頻 |
| 輸入電源 | 220V，50/60HZ |
| 輸入功率 | < 1000W |
| 輸出電壓 | DC 700V |
| 濺射電流 | 0-150mA |
| 濺射時間 | < 15min |
| 石英腔室尺寸 | 外徑166mm*內徑150mm*高260mm
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| 外形尺寸和重量 | 660mm*370mm*830mm（長*寬*高），重量：33Kg（不含泵）
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| 震動樣品臺 | 震動樣品臺安裝在真空腔體底部 ? 尺寸：直徑Φ2”(50.8mm) ? 震動電機轉速：400-2500r/min可調 ? 震動電機每次工作時間 ≤15min（＜2000r/min），＜10min（2000-2500r/min） ? 樣品臺每次濺射最大粉末量：2g（氧化鋁粉） ? 粉末顆粒度范圍：在1μm和1mm之間 |
| 靶材 | ? 適合濺射金、銀、鋁、銅、鈦等金屬，對樣品的損傷和溫升比較少 ? 靶材直徑：2英寸 ? 靶材和樣品臺之間的距離50-80mm可調 |
| 靶材濺射擋板 | 一個手動操作擋板，用于保護靶材 ? 尺寸：直徑50mm ? 可調節位置 |
| 濺射頭 | 2英寸角度可調節濺射頭，帶有水冷夾層 濺射頭與樣品臺距離可調節，調節范圍為60-100mm 設備中配有一循環水冷機（流量16L/min）,用于冷卻濺射頭 |
| 控制面板 | 6英寸控制面板，可顯示和設置所有參數，如真空和電流 |
| 真空系統 | ? 抽真空接口為KF25接口 ? 進氣口為Φ6.35mm的不銹鋼.卡套接頭，通過聚四氟管可與氣瓶連接 ? 含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥 ? 極限真空度： 機械泵< 2 pa 分子泵< 5.0*10^-3 pa ? 設備標配一個皮拉尼真空計，測量范圍從5*10-4毫巴——1000毫巴
可選配更高精度的數顯防腐真空計 PCG-555 |
| 水冷系統 | 設備需要通入冷卻水，磁控靶頭及薄膜測厚儀探頭均需水冷 |
| 薄膜測厚儀 （選配） | ? 電源：DC5V，最大電流400mA ? 最高精度：±0.5% ? 測試速度：100ms-1S/次 可設置 ? 最大測量厚度：100000 ? ? 可與計算機連接 |
| 質量認證 | ? 此產品已通過CE認證 證書編號：M.2021.206.C67994 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。
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| 國家專利 | 專利名稱：一種粉末磁控濺射儀 專利號：ZL 2019 2 1911199.8 尊重原創、鄙視抄襲、侵權必究。 |
樣品：SiC粉末、鎳靶
實驗圖片：
濺射中 濺射后的石英玻璃
濺射后的粉末 濺射前后粉末對比
檢測圖片：
濺射后的SiC粉末呈金屬色，在電鏡下可觀測到，大部分粉末表面均勻包覆一層膜狀物質.
特別聲明：
1. 以上所有實驗僅為初步探究，僅供參考。由于我們水平有限，錯誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。
2. 歡迎您提出其他實驗思路，我們來驗證。
3. 以上實驗案例及數據只針對科晶設備，不具有普遍性。
4. 因為涉及保密問題，以上數據僅為部分數據，歡迎老師與我們聯系，我們非常期待和您共同探討設備的應用技術。
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皖公網安備 34012302000974號
