| 設(shè)備名稱與型號 | 單靶磁控等離子濺射儀VTC-16-D |
| 特點(diǎn) | · 體積小巧，操作簡單，易上手 · 擁有小型磁控靶頭，可以鍍金、銀、鉑等金屬 |
| 基本參數(shù) | ·輸入電源：220V，50/60HZ · 功率：＜1000W · 濺射電流：0-80mA可調(diào) · 輸出電壓：DC 500V |
| 濺射腔室 | · 石英腔室尺寸：外徑φ166mm×內(nèi)徑φ150mm×高150mm · 采用氟膠O型圈密封 · 法蘭蓋上安裝了一個(gè)可手動(dòng)操作的擋板，用于靶材的預(yù)濺射。一個(gè)φ6.35的卡套接頭為進(jìn)氣口，用于連接進(jìn)氣管。一個(gè)手動(dòng)放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。 · 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體
·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進(jìn)入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量，從而達(dá)到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度 · 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器，實(shí)現(xiàn)對濺射電流大小的控制。
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| 靶頭與靶材 | · 一個(gè)2英寸不帶水冷的磁控濺射靶頭 ，磁控濺射靶頭的最高使用溫度為80度，超過80度磁控靶頭會(huì)失去磁性而不能工作。 · 濺射時(shí)間 :1-120s可調(diào) · 標(biāo)配一塊銅靶 · 靶材尺寸要求：φ2″*（0.5-5）mm厚度 · 適合濺射Au,Ag,Cu,等金屬（可在我公司選購） |
| 樣品臺 | · 一個(gè)上下高度可調(diào)的樣品臺，樣品臺與靶材之間的可調(diào)距離為25-70mm · 樣品臺尺寸：φ2英寸 · 樣品臺可以選配加熱功能，最高加熱溫度500度；
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| 皮拉尼真空計(jì) | · 測量范圍：1*10-4 mbar—1000 mbar（1*10-4—750 torr） · 準(zhǔn)確度：1000mbar—20 mbar（讀數(shù)的30%） 20—0.002mbar （讀數(shù)的2%） · 重復(fù)性：20—0.002mbar （讀數(shù)的2%） · 使用濕度：30℃環(huán)境下≤80% 40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體； · 使用溫度：5℃—60℃
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| 薄膜測厚儀（選配） | · 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度，分別率為0.10 ? · LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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| 真空系統(tǒng)（選配） | · 型號：VRD-8 · 抽氣速率：2.2 L/S · 電機(jī)功率：370 W · 極限壓強(qiáng)：5×10-1Pa（不帶負(fù)載） · 實(shí)際壓強(qiáng)：≤5 Pa（冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘） · 如果想要獲得更高的真空度（10-5toor or better）可選購國產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組
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| 設(shè)備使用要求 | · 為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可進(jìn)行多次濺射鍍膜 · 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材，基片和樣品臺的潔凈 · 需要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，則在濺射前清潔基材表面 |
| 外形尺寸 | 500*350*550mm（長*寬*高）
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| 重量 | 約20KG（不包含真空泵、水冷設(shè)備） |
| 質(zhì)保 | · 一年保修，終身技術(shù)支持 1、耗材部分入加熱元件、石英管、樣品坩堝等不包含在保修范圍內(nèi) 2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成損壞不在保修范圍內(nèi) |
注意事項(xiàng) | · 腔室內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向石英管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全； · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實(shí)需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關(guān)防護(hù)和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題，本公司概不負(fù)責(zé)。 |
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