| 主要特點 | ? 采用氣體作為清洗介質，避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。 ? 可短時間內徹底清洗掉有機污染物。 ? 清洗程度可達到分子級。 ? 可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。 ? 清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。 ? 樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。 ? 廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。 |
| 參數 | ? 電壓：AC220V 10A ? 消耗功率：<500W（包括真空泵） ? RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz ? 腔體：Φ190mm×98mm ? 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm ? 內腔：Φ165mm×55mm ? 清洗電極：Φ120mm ? 樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm ? 樣品臺與電極間距：15mm-50mm可調 ? 抽氣管：Φ12mm ? 極限真空度：0.1Pa ? 工作真空度：60Pa-500Pa ? 氣路數量：2路（選裝） ? 流量控制器數量：1、2 ? 流量顯示儀：2通道 ? 氣路接口：Φ6mm ? 加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝） ? 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa ? 工作環境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對濕度）不結露，海拔高度0-2000m |
| 產品規格 | ? 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵） ? 重量：20kg（不含真空泵） |
| 可選配置 | ? 加熱樣品臺 ? 流量控制器（量程10、50、100，最多可增加2個通道） |
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皖公網安備 34012302000974號
